Intel: Erste Prozessoren mit 45-nm-Strukturen ab 2007

45-nm-SRAM Die 119 qmm großen 153-MBit-SRAM-Testchips mit über einer Milliarde in 45 nm Strukturbreite gefertigten Transistoren haben auch einen Logikteil mit Schaltkreisen, wie sie typischerweise in Prozessoren zum Einsatz kommen. Damit will Intel zeigen, wieder ein Stück weiter zu sein als die Konkurrenz. Der im April 2004 vorgestellte 65-nm-SRAM-Testchip mit ähnlichen Abmaßen (110 qmm) hatte noch eine Kapazität von 70 MBit.

Der Vorteil der 45-nm-Prozesstechnik soll sich zum einen in einer ungefähren Verdopplung der Transistordichte bemerkbar machen, was Chips mit mehr Transistoren oder geringerer Größe ermöglicht. Zum anderen soll sich dadurch eine laut Intel ca. 20 Prozent höhere Transistor-Schaltgeschwindigkeit oder auf ein Fünftel reduzierte Leckstromstärke ergeben. Dazu komme noch ein um ca. 30 Prozent niedrigerer Energiebedarf für Transistor-Schaltvorgänge.

45-nm-Wafer Allerdings muss Intel die Fertigungstechnik noch zur Marktreife entwickeln, ganz so schnell werden 45-nm-Prozessoren also noch nicht im Handel sein. Intel geht davon aus, dass im zweiten Halbjahr 2007 mit der 45-nm-Fertigung von Prozessoren gestartet wird. Bis dahin wird der Umstieg auf 65 nm vorangetrieben: Bereits ab dem dritten Quartal 2006 will Intel über 50 Prozent seiner ausgelieferten CPUs im 65-nm-Verfahren fertigen.

Wie bei 65 nm wird Intel voraussichtlich auch bei 45 nm eine spezielle Niedrigvolt-Fertigungstechnik speziell für Embedded- und Handy-Prozessoren entwickeln, was Intels Director of Process Architectures & Integration, Mark Bohr, in einer Telefonkonferenz nicht von der Hand weisen, aber auch noch nicht bestätigen wollte. Vorteile durch den Umstieg auf die von AMD und IBM favorisierte Silicon-on-Insulator-Technik sieht Intel laut Bohr derzeit noch nicht.